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温室西瓜栽培,怎样设计株行距?如何进行留蔓、整蔓和吊秧?

2021-1-17 00:33| 发布者: 种地网| 查看: 10| 评论: 0

摘要: 在温室中栽培西瓜,可以利用设施的有利条件,实行宽窄行、吊秧、篱架栽培,一般宽行距90--100厘米、窄行距4050厘米,株距按40--50厘米,其栽植密度提高至1800--2400株/亩。 西瓜定植后,为提高早期叶面积系数,不可 ...
西瓜种植技术 

在温室中栽培西瓜,可以利用设施的有利条件,实行宽窄行、吊秧、篱架栽培,一般宽行距90--100厘米、窄行距40—50厘米,株距按40--50厘米,其栽植密度提高至1800--2400株/亩。

西瓜定植后,为提高早期叶面积系数,不可急于抹芽,应让其随意生长,尽快增加叶面积,促根壮秧。待瓜秧长至60厘米以上时,方可抹芽打杈。抹芽时先选留4条大蔓(包括主蔓),让其继续生长,其余的小瓜蔓一律疏除。

留下的瓜蔓,从中选出两条较大的瓜蔓,用吊瓜线按吊架黄瓜的方法,吊向空中,吊蔓时要采取“S”型缠蔓,使瓜蔓弯曲上升,以缓和瓜蔓长势,和充分利用空间。瓜蔓叶腋间发出的二次副蔓,除座瓜节位处的1条,留3—4叶摘心,保留外,其余副蔓要全部及早疏除,以防止生长点过多,造成营养竞争,恶化光照条件,影响座瓜。

对另外二条瓜蔓,一条留8—10叶摘心,并抹除其二次副蔓,另一条瓜蔓,要及时抹除二次副蔓,让其在行间地面上延伸,人工授粉的同时摘除其生长点及其副蔓,排除竞争,以利座瓜。

这样操作,可以在西瓜的生育早期,较多地保留成龄叶片,增大瓜田早期的叶面积系数,充分利用空间。较大的叶面积,能较多地制造有机营养,促进根系发达、壮秧、促瓜,为以后的高产优质打下基础。

西瓜坐稳以后,一般情况下,随着幼瓜的加速膨大,瓜秧营养生长会逐渐减慢、直至停止。但在温室中栽培,因栽植密度大,肥水充足,瓜秧仍会旺长不停,若任其生长,会造成瓜秧郁闭,光照条件恶化,减少光合产物的积累,造成西瓜减产,且易诱发病害。

因此,要注意及时控制瓜秧长势,一旦瓜秧长至长2米左右时,要及时摘除瓜头,疏除分杈。改善光照条件,提高光合效率,并抑制瓜秧营养生长长势,促进有机营养输入中心及时地转向幼瓜。

西瓜种植技术 

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